Допустим, нужно нанести маленький рисунок на уже оттектурированную поверхность. Для таких нужд подойдёт материал Blend: основным материалом будет текстура поверхности, а маской - желаемый рисунок. По умолчанию, рисунок растянется на весь полигон. Используя UVW Map, можно уменьшить рисунок, но повторение текстуры будет даже если не включать соответствующую опцию (тайлинг). Есть ли способ убрать повторение текстуры кроме как увеличение холста маски изображения?
Конкретный пример - на рисунке ниже. Я пытаюсь добиться того, что осталась только одна иконка с изображением антенны в центре поверхности.
Я в таком случае не заморачиваясь нарезал бы полигонов, а на центральный кинул бы нужный материал с текстурой. Можно и масками, но это дополнительное время.
Попробовал. В результате дополнительным материалом, которым окрашивается маска, было "залито" всё оставшееся место на полигоне. Походу придётся резать полигоны, как Андрей посоветовал.
GurebuПопробовал. В результате дополнительным материалом, которым окрашивается маска, было "залито" всё оставшееся место на полигоне.
Попробуйте такой вариант:
Инвертируем маску в программе Photoshop.
Меняем местами материалы в материале Blend.
В свойствах маски выключаем галочки Tile.
Доступ к резюме доступен только по пакетному доступу HR менеджерам зарегистрированных компаний. Узнать о вариантах корпоративных пакетов можно по ссылке.
Gurebu
Конкретный пример - на рисунке ниже. Я пытаюсь добиться того, что осталась только одна иконка с изображением антенны в центре поверхности.
Андрей Шаймарданов
Вложения
Бабуин
Gurebu
igorznag
Инвертируем маску в программе Photoshop.
Меняем местами материалы в материале Blend.
В свойствах маски выключаем галочки Tile.