Допустим, нужно нанести маленький рисунок на уже оттектурированную поверхность. Для таких нужд подойдёт материал Blend: основным материалом будет текстура поверхности, а маской - желаемый рисунок. По умолчанию, рисунок растянется на весь полигон. Используя UVW Map, можно уменьшить рисунок, но повторение текстуры будет даже если не включать соответствующую опцию (тайлинг). Есть ли способ убрать повторение текстуры кроме как увеличение холста маски изображения?
Конкретный пример - на рисунке ниже. Я пытаюсь добиться того, что осталась только одна иконка с изображением антенны в центре поверхности.
Конкретный пример - на рисунке ниже. Я пытаюсь добиться того, что осталась только одна иконка с изображением антенны в центре поверхности.