Обновление Alchemist 2020.2 от Adobe.
Adobe выпустили обновление для Substance Alchemist, версия 2020.2 получила интересную, управляемую искусственным интеллектом систему для создания 3D материалов из фотографий с одного источника. Также в релиз был добавлен новый режим 2D рисования, позволяющий пользователю рисовать собственные маски для текстурных слоёв.
Главной особенностью данного релиза является новый фильтр "Изображение в материал", который преобразует фотографию из одного источника в материал Substance, при этом, автоматически генерируя карты нормалей и смещения.
Алгоритм был обучен на изображениях реального окружения с использованием метода машинного обучения и он доступен параллельно со старым алгоритмом Bitmap 2 Material (B2M).
Со слов разработчиков генерируемые результаты должны быть лучше при использовании изображений, аналогичных тем, на которых алгоритм обучался: текстуры земли или стен, освещённые естественным солнечным светом. B2M даёт менее точные результаты, но работает с более широким диапазоном изображений.
Новый алгоритм AI поддерживается только в Windows и Linux, а также требует совместимого графического процессора Nvidia "работает быстрее на графических процессорах RTX", но старые карты Nvidia также будут работать.
Благодаря набору инструментов 2D рисования, пользователи могут создавать собственные маски слоёв, со слов разработчиков текущий набор функций "только начало рисования в Substance Alchemist" и он будет пополнен в последующих обновлениях.
Среди других изменений можно отметить: новый фильтр коррекции перспективы, drag-and-drop рабочий процесс для текстурных сетов. Также были добавлены новые пресеты для инструментов 3D дизайна одежды CLO и VStitcher.
Substance Alchemist 2020.2 доступен для 64 разрядных версий Windows 8 и выше, CentOS 7.0 и выше и macOS 10.12 и выше.